国产半导体进入减速展开阶段 两大要素支撑下 (国产半导体进展)

在美步步紧逼的贸易政策下，我国半导体产业链再次被推到了风口浪尖，美有意有意的各种“卡脖子”，促使我国相关产业链迅速展开。体如今二级市场上，相关标的近一年在心境、政策以及资金的影响下大幅下跌， 中证半导截至4月23日，近一年涨幅抵达了49%左右。

往后看，其或将在国产替代以及需求要素的支撑下，进一步减速上传，翻开更广阔的上升空间。

首先，国产替代尚有空间。

自2018年以来，我国半导体产业就逐渐遭到了外部制约，在相关政策推进下，我国部分产业链曾经逐渐成功了自主化，并翻开了部分海外市场，尤其是半导体设备范围，去胶、清洗、刻蚀设备等方面的国产化率曾经相对较高。

但在一些高精尖范围，如量测、涂胶显影、光刻、离子注入等方面，国产化率照旧偏低，尚有技术未攻克。

这意味着上述范围仍存在着微小的国产替代空间，等候着国际企业去开拓。

其次，三大需求，支撑半导体设备需求。

AI的迸发式展开。 随着人工自动的逐渐展开，越来越多的细分范围、子行业末尾研发属于自己的AI运转，这也意味着对算力需求的进一步增长。

数据显示，2024—2030年时期，AI行业的复合增长率抵达40%，2030年有望靠近万亿美元规模，半导体设备，或将充沛享用产业全体增长的规模红利。

2、消费电子复苏。 作为芯片的另一大市场，消费电子对整个行业也起着至关关键的拉举措用，依据Statista1的数据， 2028年，全球消费电子行业市场规模

将增长至11767亿美元。

3、新动力汽车继续增长。 近年来，随着技术的深刻，新动力车曾经逐渐向着自动化方向迈进，而自动化，也就意味着对芯片需求量的介入，数据显示，截至目前新动力车的市占率曾经抵达，后续或还将维持上升趋向，芯片需求量旺盛。

总之，在政策以及三大需求的催化下，我国半导体设备仍有较大的展开空间，在此背景下，像半导体设备ETF（）这样的标的，或有望清楚受益于未来市场增长所开释出的红利。

其跟踪的，就是上文提到的中证半导指数，持仓触及了很多我们耳熟能详的企业，像、、，均是其重仓， 三者的仓位集中度就抵达了40%。 正面看，其还兼具了龙头优点。

至于其近期的横盘，多为短期心境所致，待到后续相关政策逐渐出台、外部不确定性落地，或将在资金再度涌入的助推下，贬低股价中枢、打破上方压力位。

作者：钱袋侦探社

在元素周期表中金属和非金属元素的分界限的左近可以找到（　　）A．研制新型农药的元素B．制造半导体资料

A．新制农药元素可以从周期表的左上角中的非金属元素中找到，故A错误；B．位于元素周期表中金属和非金属元素的分界限的左近的元素既有金属性又有非金属性，则制半导体的资料在金属和非金属的分界限左近找，故B正确；C．制造催化剂的资料在过渡元素区找，如铁或钒等，故C错误；D．制耐高温合金元素在元素周期表的过渡金属中能找到，故D错误；故选B．

光刻机中国能造吗？

暂时不能

光刻机不是一项单一的技术，而是现代各项高科技技术的集成，成品面前要求有数的产业链支持，以中国如今的科技水平暂时还不能造出。

当中国专家去荷兰阿斯麦尔公司观赏光刻机的时刻，阿斯麦尔的高管直接对中国的专家说：就算给你全套图纸，你们中国也造不出光刻机。很多中国人听到这句话都十分的气愤，凭什么中国就造不出光刻机？

近年来关于国产光刻机弯道超车的资讯频繁在各类媒体中出现，国人想要在光刻机技术上逾越欧美兴旺国度的爱国情怀可以了解，但部分媒体为了博取眼球对国产光刻机过火的吹捧，不尊重理想的报道对普通群众而言其实是一件特别不担任任的事情。

理想很丰满，理想很骨感，以中国如今的科技水平确实造不出光刻机，光刻机不是一项单一的技术，而是现代各项高科技技术的集成，光刻机的外部十分复杂，可以说是人类知识集大成的产物之一，光刻机就像手机和汽车一样，是由有数的零配件组装分解的，最终成功某种性能，成品面前要求有数的产业链支持，各式各样的零配件都是行业内顶级的技术表现，没有长时期的深耕运作，国产光刻机在单一的某项技术上成功抢先是没疑问的，但是想要在全体上成功弯道超车，基本上不理想。

举个例子：比如马拉松短跑竞赛，第二名与第一名的差距相差3公里，在某一个时期段，第二名选手的速度超越了第一名选手，这仅仅代表着第二名选手最终有逾越第一名选手的或许，但是3公里路程的庞大差距却不是一时半会可以赶上的，想要逾越，时期跨度将十分大，由于你在努力向前跑的同时对手也在努力向前跑。

荷兰阿斯麦尔之所以能够垄断全球最顶尖的光刻机市场，不是由于荷兰人聪明，单纯靠荷兰人也研发不出光刻机，光刻机的研发集合了全球优势资源加上半导体几十年的技术积聚，最终在数以万计的专业的顶尖研发人员不时技术打破下才成功，荷兰的幸运在于目前只要荷兰掌握光刻机最中心的技术“侵入式光刻技术”，所以如今顶级光刻机只要荷兰有才干消费。

技术是研发的内在表现，任何技术的打破都是厚积薄发的结果，光刻机要求的技术方向特别多，比如机械化层面，智能化层面，系统迷信层面等一大堆方向都要求有人去攻关，有些中央是知道技术壁垒的，但是如何打破技术壁垒还没有眉目，有些中央连技术壁垒在什么中央都没找到，更别谈技术打破了，而且任何一项技术的打破都要求天长日久技术投入，资金投入，人员投入。

技术积聚并不是钱能够处置的，目前国际在光刻机范围做得比拟好的是上海微电子装备和中科院的某个研讨所，它们目前还逗留在90nm研发产品阶段，而荷兰阿斯麦尔7nm的光刻机曾经成功量产，当然这并不代表国产光刻机没有逾越的时机，目前国际对光刻机的注重水平越来越高，少量的资金和顶尖的人才都在光刻机范围深耕研讨。

国产光刻机其实只需在某些关键技术上取得打破，就算得上是弯道超车了，就好比荷兰阿斯麦尔在光刻机“侵入式光刻技术”上抢先全球一样，没有这项关键性技术，就无法制造更顶级的光刻机，所以目前只要荷兰才有资历制造顶级光刻机。

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