芯联集成取得外延设备专利 提高外延层边缘厚度的平均性 (联芯集成待遇)

专利摘要显示，本适用新型提供一种外延设备，外延设备包括：腔体，包括第一腔体和第二腔体；基座，设置于腔体内，用于承载衬底；第一腔体和基座之间构成有反响空间，第二腔体和基座之间构成有吹扫空间；第一内衬环和第二内衬环，设置于腔体内且区分位于第一腔体的边缘和第二腔体的边缘；第一内衬环和第二内衬环之间构成有用于反响气体进入反响空间的第一进气口和用于反响气体流出反响空间的第一出气口；其中，第二腔体上设置有用于吹扫气体进入吹扫空间的第二进气口，第二内衬环接近第一出气口的部位中设置有用于吹扫气体流出吹扫空间的第二出气口。本开放可以提高外延层边缘厚度的平均性，处置外延层边缘偏薄的疑问，并提高腔体的PM周期。