要素为难 三星美国芯片工厂推延接纳EUV光刻机 (要素之一)

据媒体报道，三位知情人士称，三星电子已推延为其美国得州新芯片工厂接纳阿斯麦的芯片制造设备光刻机，要素是该项目尚未找就职何大客户。

三星在得州泰勒市建造的美国芯片工厂造价170亿美元。据知情人士走漏，三星还不时在推延向部分其他供应商下订单，迫使这些供应商不得不寻觅其他客户，并将派驻在三星工厂的员工调回。

阿斯麦光刻机交付的提早对泰勒工厂来说是一个新的迂回，该工厂将在三星会长李在镕(Jay Y. Lee)的扩张雄心中发扬关键作用，后者心愿把业务范围从主营存储芯片扩展到台积电主导的芯片代工范围。这也凸显出三星与台积电、SK海力士等竞争对手之间的差距正在扩展。这些对手正在加大高端芯片的消费，以满足人工自动运转日益增长的需求。

阿斯麦在周二下调了2025年的销售额预期，要素是除人工自动以外的其他市场表现疲软以及客户推延树立晶圆厂。它并未走漏推延树立晶圆厂的客户名字。媒体率先报道称，三星推延了部分阿斯麦设备的交付。

两位知情人士表示，提早向三星泰勒工厂发货的是阿斯麦的先进芯片制造设备：极紫外光刻机(EUV)。这些设备原定于往年早些时辰交付，但至今仍未发货。第三位知情人士则表示，三星已推延为新工厂接纳部分阿斯麦设备，但未详细说明详细设备类型或修订后的交货时期表。

目前尚不清楚三星已订购了多少台EUV光刻机或其所达成的付款条款。EUV光刻机每台价值约2亿美元，经过光束在硅晶圆上刻蚀电路图案，被普遍用于制造自入手机、电子设备和人工自动主机中的先进芯片。

三星在往年4月份表示，泰勒工厂的投产将从2024年推延到2026年。李在镕在本月早些时辰表示，该工厂让公司面临应战。

截至发稿，三星和阿斯麦拒绝就光刻机推延交付一事置评。

组建6G联盟，扫除中兴华为，美国想重演尼康光刻机败局戏份？

虽然5G技术尚未完全普及，但全球 科技 巨头们已末尾聚集在一同，努力于研发6G移动网络技术，2020年10月，美国电信行业处置方案联盟（ATIS）宣布成立“Next G Alliance”——下一个G联盟。 截至目前，美国企业高通、英特尔、微软、Facebook、AT&T、思科、威瑞森，加拿大的贝尔，韩国的三星、LG电子，瑞典的爱立信，芬兰的诺基亚均已参与该联盟，而谷歌和苹果也在近期参与了该联盟，并方案于美东时期16日举行第一次性会议。 虽然中兴和华为在通讯范围处于全球抢先位置，但未能获准参与该联盟，ATIS总裁米勒表示，假设企业被美国政府扫除在合同之外，则不能成为联盟开创成员。 显然，中兴和华为再一次性被特殊看待了。 中兴、华为被扫除在外，似乎跟2000年前后“EUV光刻机之战”很相似。 上世纪90年代前期，芯片制程沿着摩尔定律迈进的时刻，遭遇技术瓶颈，193nm迟迟无法打破，大家都在寻觅取代193nm光刻光源的技术，在那个时代，尼康是当之无愧的霸主，美国同行节节溃退，而日本半导体产业也如日中天，让美国忌惮。 为了打破技术瓶颈，1997年，由英特尔和美国动力部牵头，集合了事先简直一切半导体巨头以及美国三大国度实验室组成的EUV LLC联盟，ASML承诺在美国投资建厂，推销美国设备后，也被拉进该联盟，但唯独没有尼康。 由于一位议员提交给国会的报告中写到，尼康或许会将美国的光刻机技术带回日本，使美国在半导体范围的抢先位置进一步削弱。 效果是清楚的，EUV LLC联盟几百位迷信家在1997-2003年宣布了少量论文，证明了EUV光刻机的可行性，最终ASML在2006年推出了EUV光刻机的原型，奠定了ASML之后在高端光刻机范围的垄断位置，而被孤立的尼康则从此一蹶不振，如今只能在28nm及以上工艺混口饭吃。 组建联盟是美国的优点，20年前的光刻机以及更多范围都这样干过，到如今又末尾组建6G联盟，华为、中兴的最大竞争者爱立信和诺基亚在列，还有三星、LG，这并非树立北美地域的指导者位置，而是要在全球树立指导者位置，用对付尼康的方式，限制华为和中兴。 与20年前光刻机被尼康控制相似，如今美国的5G相较国际落后，想经过组建联盟“跨越式开展”打破华为在5G范围的优势。 目前，全球关于5G频谱范围的选择一分为二，一边是中国和其他国度，另一边是美国；其他各国关键选择中频段，也就是“四车道”，美国关键选择高频段，也就是“八车道”，各有优劣势。 八车道的优势在于车道更多更宽，传输的信息和数据多，传输效率高，这种技术业内有个商定俗成的名字——毫米波，但劣势也很清楚，八车道车道宽，但长度难以保证，对环境地形要求也很高，必需平整开阔，不能有阻碍物，这就意味着基站的铺设密度要提高，本钱高昂。 相较八车道高频段，主流的四车道中低频段，虽然没有八车道宽，信息传输量和速度没那么快，但是统筹了传输长度和适用性，在大范围推行运行上有一定优势。 去年谷歌曾对美国5G网络经常使用的毫米波性能规范和中国5G网络经常使用的性能规范启动了现场对比测试，数据显示，在同一区域以内，中国5G网络的掩盖率是美国的5倍，相同是100兆速率的5G网络，采用毫米波能掩盖11.6%的人口，采用中国规范性能可掩盖57.4%。 目前毫米波技术并不成熟，大面积推行难度很大，但假设丢弃转而做中低频段，意味着美国在该范围千亿级的研发投入将打水漂，美国企业不愿随便丢弃，组建联盟一方面可以使美国预期在未来坚持抢先，另一方面在技术上能够失掉更多支持。 另外，美国的基建才干缺乏，基站对通讯行业极为关键，但行业利润率低，随着美企朗讯破产之后，摩托罗拉、高通基本丢弃了电信设备业务，转做附加值更高的芯片，目前全球四大电信设备巨头，没有一家美国公司。 研讨发现，2015年后，同时期中国建了35万个新的基站，美国同期是3万个，基站树立效率是制约美国5G落后的另一关键要素，所以，美国要求换一条赛道跑，启动跨越式开展，毕竟美国在毫米波范围的研讨不时处于抢先位置，高通在超高频段的毫米波范围也开放了少量专利，美国组建联盟是要借自己的优点，经过技术革新，继续占据主导位置。 另外还包括资助30多所美国大学协作研发，成立美国国际开发金融公司提供资金支持，以及马斯克倡议用卫星提供高速互联网服务，推出“星链”方案，追求多点开花。 有剖析以为，卫星互联网或许让美国6G部署如虎添翼。 重量级 科技 公司参与美国6G联盟，标志着美国 科技 巨头末尾聚焦于未来6G网络技术的研发，尤其是在中国5G技术崛起的背景下，简直可以预见，未来6G网络的竞争不会低于如今的5G。 华为开创人任正非在2019年9月曾表示，华为研发6G移动网络的任务曾经末尾，华为在加拿大渥太华的实验室研发6G网络技术。 任正非以为：“6G关键是带宽更宽了，但是掩盖力不够，他是毫米波，掩盖距离短，这有赖于传达技术中的通常打破、技术打破，6G才干走向运行，我们估量要求十年。 ” 国际其他公司，比如中兴也组建了6G预研团队，末尾研讨6G的原型关键技术，中国移动、中国联通、中国电信等运营商，小米等通讯企业均表示末尾6G通讯技术研讨。 美国像20年前组建EUV LLC联盟一样，再组建6G联盟，让人担忧的是，未来6G技术或许会划分红中美两个一模一样的规范，假设那样，则或许造成美国无法经常使用中国6G技术手机，而中国也无法经常使用美国的6G技术手机，两个手机版本将减缓全球通讯的速度。 随之而来的是，两个规范的电信设备商在全球市场的竞争中会愈加剧烈，站队抱团会更多，商业竞争之外，会多中一意味，弊端很多，恐怕双方都不情愿看到，协作才干共赢，希望能找到一种处置方式。

光刻机的难度在哪里

摘要：光刻机被誉为“现代首空光学工业之花”，其难度之大，被誉为比研制原子弹还困难！全球只要少数几个国度能够制造。 荷兰在全球高端光刻机市场中占据抢先位置，日本和中国也具有制造光刻机的才干。 但是，我国在光刻机技术上不时遭到西方国度的限制，至今未能打破尖端技术。 那么，研制光刻机的难度终究在哪里呢？一、哪些国度能造光刻机？光刻机是芯片产业制造中无法或缺的设备，也是工时和本钱最高的设备之一，其技术代表着全球顶尖技术和人类智慧的结晶。 目前，能够制造光刻机的国度的代表企业区分是：荷兰的ASML公司，日本的佳能和尼康，以及中国的上海微电子。 虽然我国目前只能制造出90纳米的光刻机，但我国曾经加大了科研投入和人才培育，置信在不久的未来，我国将能制造出属于自己的光刻机。 二、光刻机的难度在哪里？1. 光源疑问：光刻机以光为媒介，成功微米甚至纳米级别的图形加工。 荷兰ASML公司的极紫外光刻机（EUV）是如今全球最顶尖的光刻机设备，其光源技术来自于美国的Cymer，经过屡次反射短波紫外线失掉极紫外线。 这个环节的精细水平可见一斑。 2. 反射镜疑问：反射镜是用来调整光路和聚焦的，其精度要求极高。 ASML公司的EUV光刻机的反射镜来自于德国的蔡司。 反射镜要求成功高反射率，科研人员经过研讨发现，采用Mo/Si多层膜制备出的反射镜对中心波长为13.5nm、光谱带宽在2%以内的EUV光的反射率可达70%。 3. 任务台疑问：任务台控制了芯片在制造环节中的纹路刻蚀，其移动精度直接影响到加工芯片的精度。 ASML公司的EUV光刻机采用高精度的激光干预仪启动微动台的位移测量，成功纳米级的超精细同步运动。 4. 耗电疑问：光刻机要求在任务环节中稳如泰山地输入高功率的光线，以支持其在晶圆上的继续刻蚀。 EUV光刻机要求消耗少量电能，以成功任务环境的真空和更高的功率。 除此之外，光刻机的研发还面临着许多其他难点，如次级电子对光刻胶的曝光、光化学反响释放气体、EUV对光罩的腐蚀等疑问。 光刻机对任务环境的要求极高，要求在超洁净的环境下运转，一点点小灰尘落在光罩上就会带来严重的良品率疑问，并对资料技术、流程控制等都有更高的要求。 同时，光刻机的研发本钱极高。 结语：光刻机的制造在光源、物镜、任务台、研发投入、任务环境等范围都面临着不小的难点，这也是我国在芯片制造上方临被卡脖子的困境的要素。 但是，我国在光刻机技术上曾经取得了一些打破，国产光刻机的未来值得等候！我们等候中国光刻机能够打破垄断，走向全球的一刻。

ASML火灾后续：EUV光刻机受影响

2022-01-0905:56:00作者：老王全球半导体产能紧张继续一年了，芯片扩产要求包括光刻机在内的关键设备，结果前几天全球最大光刻机巨头ASML在德国的工厂遭遇火灾，官方表示还要几天赋能评价损失，但是如今可以确定关键是EUV光刻机消费会受影响。 ASML旗下的这家公司位于德国柏林，前身是BerlinerGlas，ASML公司2020年才收买了这家公司，它们的营收额并不高，但消费的是光刻机中的一种关键部件，可以用于光刻机及晶圆之间的接口，要求有纳米级别的操作精度，可以说是小而精了。 依据ASML的信息，虽然评价能否影响往年的光刻机交货还有点早，但这次事情影响的关键是EUV光刻机消费，DUV光刻机不受影响。 EUV光刻机是消费7nm以下工艺的关键设备，ASML是全球独一的EUV光刻机供应商，每台售价1亿欧元，将近10亿人民币，去年交付了35台EUV光刻机，往年方案交付55台EUV光刻机，三星、台积电及Intel是关键的客户。