专利摘要显示，本适用新型提供一种光刻胶氟硅引发剂制备设备，触及制备设备技术范围，包括装置本体；所述装置本体设置有上下方向的制备反响桶，制备反响桶顶部外部圆周设置有带装置孔的环形板，制备反响桶底部设置有漏斗，制备反响桶的漏斗底部外部圆周开...
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